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一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现_技术资料

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一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现发布日期:2015-11-07来源:中国LED照明灯网作者:[db:作者]浏览次数:306 对于(1)式所得出的*小特征尺寸,其景深DOF可由(2)式给出:光刻技术作为微电子技术微细加工的关键技术,是迄今为止精度*高的加工技术。光刻系统的性能可以通过分辨率W和景深DOF(depthoffo-cus)两个指标来衡量。分辨率W,即光刻系统可以刻出的*小特征尺寸,可表示为:光波长,k1和k2是工艺参数,由透镜偏差和工艺因素确定。通常,kuk2在0. 5到1.0之间。(1)和(2)消去NA,得到:(3)从(3)可看出,在参数ku、2以及分辨率W基金项目9国家自然然科学基金资助项目扣:1760EectronicPublishingHouse.Allrights相同的情况下,波长A越小,景深越大。这样,可通过减小波长来增大景深。另一种增加景深的方法是减小ki的值,由于DOF与ki的平方成反比,故ki的作用是很大的。在光刻过程中,fc是一个由光刻胶所决定的参数,光刻胶一旦选定,k2就是一个固定的值。因此,当光刻系统所采用的光的波长一经给定,在W―定的情况下,要增大景深,主要的方法是前工程。 2离轴照明的原理OAI技术的引入改变了传统照明的方法。通过减小ki来实现。通常,有几种方法可以减小ki,其入射光束不是垂直于掩模版,而是通过一个不同以四极光阑为例,掩模上的图形的零级傅立叶分量在投影透镜上产生了四个离轴光点,一级衍射光束中的一束则在与光轴对称的另一边形成光点,而另一束一级衍射光束已走出透镜范围,不能形成光点。于是,每一个照明单元有两束光线通过投影系统在晶圆片表面形成图像。因为一级衍射光束的幅度大大小于零级的幅度,所以,得到的图像有良好的反差和好的分辨率。离轴照明技术还提高了景深,尤其是对于密集图形来说,米用图i(d)和(e)两种光阑,则达到更大的景深。把OAI和PSM结合起来,可以得到均匀的照明和接近iOO%反差的理想结果。同时,应用OPC技术预先对掩模的图形进行校正,以达到设计的目的,即*终使设计的电路与硅圆片上的1实际电路在功能上保持l5ctronic数值孔径NA、相干因子曝光波长ki和工艺因子ki以及掩模上不同的特征尺寸和间距对形成空间图像的影响。对采用常规的照明装置(图i(a)),在同一光学参数下对于不同的特征尺寸和间隔的图形所得到的空间图像,与采用OAI照明装置所得到的结果进行了比较。其中,对于(a)、(b)的光学参数都为:A= sigma=0.2)夕卜,其余的数据与(b)―样。从中族),副教授,江西南城人1990年于华中理工大学检测技术及仪器专业获学士学位,2002年于浙江大学电力电子专业获硕士学位,研究方向为超深亚微米IC光刻过程的透射成像。;

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